光刻技术的原理是什么

　　光刻技术的原理：集成电路制造中利用光学、化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。

　　随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2至3个数量级，已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。

光刻技术的原理是什么相关文章：

★ 木马技术的原理是什么

★ 速度选择器的原理是什么

★ 母差保护的原理是什么

★ 撒盐化冰的原理是什么

★ 弧光灯的原理是什么

★ 3E车内空气净化的原理是什么

★ 胎压监测装置的原理是什么

★ 悠悠球转动的原理是什么

★ 冻干的原理是什么

★ 24节气的计算公式是谁发现的什么时候发现的原理是什么