PVD真空镀膜原理是什么

　　目前常用的PVD有三种：真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀；它们的工作原理如下：1、真镀空膜：是在适当的压强下用电子束等热源加热材料使之蒸发，蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层；

　　2、溅射镀膜：是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法，施镀时，将工作室抽成真空，冲入氩气做为工作气体，并保持其压力为0.13至1、33帕；

　　3、离子镀：是在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物质或其他反应物蒸镀在工件上。

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